Назначение и область применения
Магнетронные распылительные системы позволяют получать значительно более высокие скорости распыления металлов по сравнению с диодными и ионно-лучевыми распылительными системами. Они применяются для получения пленок металлов, сплавов, полупроводников и диэлектриков (в случае использования реактивных процессов);
Преимущества
-Высокая скорость осаждения (до нескольких сотен А/с), а следовательно и высокая чистота пленок;
-Относительно высокая адгезия и низкая пористость пленок;
-Возможность изменения параметров пленок за счет потенциала смещения на подложке, давления и состава газовой среды;
-Более низкое по сравнению с другими ионно-плазменными методами радиационное и тепловое воздействие на обрабатываемую структуру;
-Возможность использования ряда материалов при высоких плотностях тока на мишени к самораспылению;
-Возможность создания линий непрерывного действия.
Особенности и технические характеристики
|
В лаборатории ведутся работы по разработке и исследованию характеристик магнетронных распылительных систем.
Характеристики магнетронных распылительных систем:
- диапазон рабочих давлений 0.06 - 2.0 Па;
- ток разряда до 15 А при напряжении до 600 В.
В лаборатории разработаны и используются магнетронные распылительные системы как с круглой планарной, так и протяженной мишенью. Одним из перспективных направлений лаборатории является разработка и исследование магнетронных распылительных систем несбалансированного типа (unbalanced magnetron).
В несбалансированных магнетронах, в отличие от обычных магнетронов, не все линии магнитного поля замкнуты между центральным и внешним полюсами магнитной системы. В этом случае незамкнутые линии магнитного поля с периферии катода направлены к подложке, и вторичные электроны имеют возможность двигаться по данным линиям магнитного поля. Следовательно, плазма в несбалансированных магнетронах полностью не ограничена примишенной областью, и может распространяться до подложки. В данном случае из плазмы могут извлекаться ионные токи значительной плотности даже без внешнего смещения подложки. Несбалансированные магнетроны имеют огромный потенциал для методов ионно-стимулированного формирования пленок, особенно для слоев с повышенными трибологическими характеристиками. Характеристики магнетронных распылительных систем несбалансированного типа:
- диапазон рабочих давлений 0.02-2.0 Па;
- ток разряда до 15 А при напряжении до 600 В.
- плотность тока подложки до 10 мА/cм2.
|
 |
возврат к разделу «Ионно-плазменные устройства и технологии для формирования функциональных тонкопленочных слоев»
|
