ПОЛИРУЮЩИЕ СУСПЕНЗИИ НА ОСНОВЕ ДИОКСИДА КРЕМНИЯ ДЛЯ ПОЛИРОВКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ И ДРУГИХ МАТЕРИАЛОВ

Контакт: В.Е.Гайшун, Проблемная НИЛ Перспективных Материалов
телефон (+375 232) 576436
факс (+375 232)  576357
e_mail:
http: www.gsu.by

Гомельский государственный университет
имени Ф.Скорины

Адрес:  104,ул. Советская, 246019, Гомель,
Республика Беларусь

Назначение и область применения

Полирующие суспензии представляют собой ультрадисперсные коллоидные системы на основе диоксида кремния, стабилизированные органическими и неорганическими основаниями. Внешний вид - жидкость молочного цвета, не содержащая посторонних механических включений, видимых невооруженным глазом. Суспензии предназначены для полировки изделий электроники. В частности, могут применяться на стадии финишной полировки пластин монокристаллического кремния.

Технические характеристики

Основные типы полирующих суспензий: СПС - 54 - чистый коллоидный диоксид кремния без добавок; СПС - 8 - для I стадии полировки полупроводниковых материалов; СПС - 53, СПС - 55 - для II стадии полировки полупроводниковых материалов.

Марка суспензии СПС-55 СПС-53 СПС-8 СПС-81 СПС-54
Примеси, масс.%, железо 0,0002 0,0002 0,0002 0,0002 0,0003
Примеси, масс.%, натрий 0,4 0,4 0,0005 0,0005 0,0004
Примеси, масс.%, калий 0,00005 0,00005 0,00004 0,00004 0,00004
Стабилизирующее основание NaOH, KOH NaOH, KOH этилендиамин этилендиамин -
Плотность, г/cм3 1,130-1,134 1,060-1,065 1,075-1,080 1,10-1,12 1,10-1,12
рН при 200С 9,5-10,9 9,5-10,9 11,8-12,0 12,5-12,8 6,5-7,0
Размер частиц SiO2, нм 50-100 10-40 10-40 50-100 50-100
Содержание SiO2, масс.% 20,0 10,0 12,5 20,0 16,0
Вязкость, МПа*с 1,8 1,25 1,25 1,7 1,7
Стадия использования II стадия II стадия I стадия I стадия по требованию
Рекомендуемое разбавление 1:10 1:5 1:3 1:5 по требованию
рН после разбавления 10,5-10,6 10,5-10,6 11,8-11,9 12,2-12,3 по требованию
Плотность после разбавления, г/см3 1,010 1,010 1,015 1,010 -
Рекомендуемый тип полировки сегаль или поливел сегаль политан политан сегаль, поливел, политан и др.
Cрок годности, месяцев, не менее 6 6 6 6 6

Преимущества

Суспензии на основе наноразмерных частиц пирогенного диоксида кремния марок А-50 и А-100 имеют высокую стабильность, малую величину возникающего статического электричества на полировальнике, высокую производительность, хорошую селективность, минимальное загрязнение ионами металлов и являются пригодными для использования на стадии планаризации металлических слоёв при производстве интегральных микросхем. Конкурентноспособная цена.

Промышленная апробация: ГП "Камертон" (г.Пинск), ГПО "Интеграл" (г.Минск)

 

 
 
За дополнительной информацией обращайтесь к нам:
Региональный маркетинговый центр телефон: (+ 375 232) 577711
e-mail:
http: www.gsu.by/rcm/		 Гомельский государственный университет
имени Ф.Скорины
телефон: (+ 375 17) 2928342
факс: (+375 17) 2927183
e-mail:		 Министерство образования Республики Беларусь